《科创板日报》11月7日讯，在第八届中国国际进口博览会上，全球半导体设备巨头ASML首次向公众展示了其最新的全景光刻技术产品，其中包括两款备受瞩目的DUV光刻机——TWINSCAN XT:260与TWINSCAN NXT:870B。
据《科创板日报》记者现场了解，此次展出的TWINSCAN XT:260光刻机，作为ASML首款专为先进封装领域设计的大视场曝光系统，其最大亮点在于显著提升了生产效率。相较于传统机型，该系统能够实现高达4倍的生产效率提升，为先进封装工艺的规模化生产提供了强有力的支持。
与此同时，另一款展出的TWINSCAN NXT:870B光刻机同样引人注目。该机型在升级的光学器件以及最新一代磁悬浮平台的共同作用下，实现了每小时晶圆产量（WPH）超过400片的卓越性能，进一步巩固了ASML在高端光刻市场的领先地位。
此次ASML在进博会上的首秀，不仅展示了其在光刻技术领域的深厚积累，更为全球半导体产业的未来发展注入了新的活力。（记者 陈俊清）
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