国内首条12寸硅光芯片流片平台正式启用，光谷再获关键突破

据“中国光谷”微信公众号11月11日消息，近日，国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK（工艺设计套件）、TDK（测试设计套件）及ADK（封装设计套件）流片服务平台正式在光谷投用。

该平台由国家信息光电子创新中心（NOEIC）建设运营，标志着光谷企业在硅光领域实现又一关键突破。这一平台的投用，不仅为国内硅光芯片的研发与生产提供了重要支撑，也进一步推动了光谷在光电子产业领域的创新发展。

硅光芯片作为新一代信息技术的重要组成部分，具有高速、低功耗、高集成度等显著优势，广泛应用于数据中心、5G通信、人工智能等领域。此次流片平台的投用，将有助于提升我国硅光芯片的自主研发能力，加速相关技术的产业化进程。