文/王新喜
自2019年以来，美国持续加码对先进芯片及制造设备的限制，尤其是针对荷兰光刻机对中国的出口。这一政策本应为日本光刻机厂商如尼康、佳能提供抢占市场的黄金机会，然而多年过去，日本光刻机非但未能乘势崛起，反而逐渐边缘化。这背后的原因何在？
从光刻机市场的发展历程来看，日本的尼康和佳能曾是该领域的先驱，历史比ASML更为悠久，技术实力与资金储备均不容小觑。尼康在1978年便成功研制出首台半导体光刻机SR-1，而佳能更早，于1970年就推出了日本首台商用光刻机PPC-1。然而，在发展到采用193nm干式光刻机的阶段时，日系厂商与ASML的技术路线产生了分歧。日系厂商主张继续研发波长更短的光源，如165nm，以提升光刻分辨率。但165nm波长的光线稳定性差，研究多年进展缓慢。
转折点出现在ASML与台积电的合作上。双方成功制造出全球首台以水为介质的浸润式光刻机，采用193nm波长但等效于134nm，迅速投入台积电生产线并取得优异效果。此后，ASML的市场份额不断扩大，更进一步研制出EUV光刻机，独家垄断光源技术，与日系厂商的差距进一步拉大。尽管尼康后来也能量产用于生产7nm及以下制程的浸润式光刻机，但在市场上已难以与ASML抗衡。
尼康的NSR-S635E ArF浸入式光刻机虽使用DUV光源即可加工5～7纳米芯片，且不依赖美国技术，每小时能制造275片晶圆，但在争夺中国DUV光刻机市场上仍显乏力。这背后的原因，首先在于ASML与大客户之间形成了长期合作的供应链信任关系，众多核心企业更是独家合作，技术保密严格，其他企业难以挖角。
日本光刻机的机会其实在中国市场。在ASML因美国出口管制压力而被迫制裁中国时，中国曾试图拓宽光刻机进口来源。然而，日本却选择坚决服从并配合美国的制裁措施。例如，2023年3月，日本政府宣布对包括光刻机在内的23种半导体设备实施出口管制，2024年4月更是将GAAFET等先进技术纳入管制范围，直接将大量优质订单拱手让给ASML。
相比之下，ASML虽也面临美国制裁压力，但选择了一种利益优先、规则为辅的灵活策略，通过钻政策漏洞来绕过美方出口管制。自2022年起，荷兰官方多次表态不会完全照搬美国的对华出口措施。在美方不断升级的芯片出口管制压力下，荷兰虽也出台了新规，但主要针对最新一代设备，旧型号及中低端产品仍能自由流通。2023年，ASML向中国销售了450台光刻机，较2022年提升了50%，总收入约有29%来自中国。
2024年，荷兰和美国最新颁布的出口管制法规生效后，ASML紧急向美申请了4个月的限制豁免期，对我方加紧出货。同年3月，荷兰首相访华时亲自表态会努力减少出口限制造成的影响。9月，荷兰加紧了出口许可规定，但对老款和中低端机型仍照卖不误。此外，荷兰政府在2025年1月还将大部分ASML对华销售从“双重用途”出口数据里剔除，相当于给公司开了绿灯。
反观日本，似乎从未考虑过灵活应对的问题，严格遵循美方的制裁要求。日本经济产业省直接发话，严禁尼康、佳能等老字号企业将浸没式光刻机卖给中国客户。这导致日本2024年对华半导体出口萎缩20%以上，市场份额损失超过30亿美元。而荷兰的操作则非常灵活，既维持了美方的盟友关系，又给自家企业留足了生存空间。
不少业内人士与媒体感叹，日本光刻机大大葬送了弯道超车的机会。荷兰在“顶住美方压力”与“稳住业务”间找到了平衡，而日本却将产业命脉牢牢绑在美国的战车上，继而导致自身的产业风险不可控。据《日本经济新闻》在2024年11月透露，荷兰ASML照样卖中低端设备，把本该属于日本的市场给抢了去。
中国因受美国的限制禁令影响，备受卡脖子之苦，国产替代的诉求比以往任何时候都要强烈。去年曝光的氟化氩光刻机是ArF光刻机，接下来要突破的是浸润式DUV。此外，中国还在推进纳米压印与电子光束多条路线并行研发。在EUV光刻机的光源技术上，哈工大与国仪超精密集团共建的11亿元产线已试运行，虽与ASML的商用标准尚有差距，但已足够支撑原型机通过关键测试。
中国正用时间换空间，用进口缓冲期加速自研，实现关键节点的突围。这种全球多极化的芯片市场分化已成趋势，中国将成为重要一极。半导体产业的命运旋转不息，技术之外折射出国家间的利益较量。尼康股价在2025年上半年因订单减少而业绩下滑，错失在中国市场的机会后，恐再无翻身之日。
日本在光刻机市场的惨败给市场上了一课：不要高估了自己，也不要低估了别人。做生意如果没有自己的主见，将外交政治服从凌驾于商业经营之上，只懂得全方位配合美国制裁，没有“利益优先，规则为辅”的灵活化思维，就相当于直接把自己的市场拱手让人，放弃了国际博弈中的筹码，最终葬送的是自己的前途与未来。
作者：王新喜 TMT资深评论人 本文未经许可谢绝转载
猜你喜欢
