财联社11月11日电，据“中国光谷”最新消息，近日，国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK（工艺设计套件）、TDK（测试设计套件）及ADK（封装设计套件）流片服务平台在光谷正式投入使用。
该平台由国家信息光电子创新中心（NOEIC）负责建设与运营，其投用标志着我国光谷企业在硅光芯片领域实现了又一关键性技术突破。此平台的建立，不仅提升了我国硅光芯片的自主研发能力，也为国内相关产业提供了强有力的技术支持和保障。
此次投用的流片服务平台，集成了全国产化的硅光PDK、TDK及ADK设计套件，将有效推动我国硅光芯片技术的快速发展，助力我国在全球硅光芯片竞争中占据更有利的位置。
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