10月27日，光刻胶概念股在资本市场表现强劲，彤程新材（603650.SH）开盘即一字涨停，格林达（603931.SH）、万润股份（002643.SZ）随后也相继封住涨停板，市场热度持续升温。这一波行情的背后，是国产光刻胶产业在技术研发与标准建立上的双重突破。
重大技术突破：解析光刻胶分子微观结构
在芯片制造的光刻流程中，“显影”环节是决定图案成败的关键一步。光刻胶作为刻画电路的“颜料”，其在显影液中的运动状态直接影响电路的精度和芯片的良率。长期以来，工业界对光刻胶工艺的优化主要依赖反复“试错”，这成为制约7纳米及以下先进制程良率提升的关键瓶颈之一。
面对这一挑战，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队联合清华大学、香港大学的研究人员，首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体研究领域，并取得了突出成效。研究团队通过该技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，分辨率优于5纳米。
这一发现不仅揭示了光刻胶分子在溶液中的微观物理化学行为，还开发出了显著减少光刻缺陷的产业化方案。该方案有效清除了12英寸晶圆图案表面的光刻胶残留，为提升光刻精度与良率开辟了新路径。
标准建立：填补国内EUV光刻胶技术空白
在技术研究不断取得突破的同时，建立统一、规范的行业标准成为推动光刻胶技术落地应用、实现产业化规模化发展的重要保障。近日，根据国家标准委网站的信息，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，于10月23日开始公示，截止时间为11月22日。
该标准的制定具有重要的现实意义，不仅能够填补国内在该领域的技术标准空白，更将通过建立统一的测试方法体系，为国内外EUV光刻胶的性能评价提供客观标尺，促进产业的健康发展。
迎来发展窗口期：市场需求爆发式增长
光刻胶是一种光敏感的耐蚀刻薄膜材料，主要由树脂、感光剂、溶剂和添加剂等材料组成，为混合液体，可在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料。按照应用场景，光刻胶可分为半导体集成电路（IC）、FPD（平板显示器）、印制电路板（PCB）三大类。
在全球电子产业协同发展的过程中，中国大陆逐步崛起为全球最大的电子信息产品制造中心。半导体、PCB及面板产业的产能快速扩张，进而推动了上游材料光刻胶市场需求的爆发式增长。据Research And Markets的预测数据，未来几年内，全球光刻胶市场规模预计将从2020年的87亿美元稳步攀升至2026年的120亿美元以上，年均复合增长率约为6%。
目前，全球半导体光刻胶领域主要被日本JSR、TOK、信越化学、住友化学、富士材料，以及美国陶氏化学等头部厂商垄断，他们掌握着全球90%的半导体光刻胶市场。而我国企业量产产品以技术要求相对较低的i线/g线光刻胶为主，国产化还有较大提升空间。
企业领跑：彤程新材、扬帆新材等表现突出
在国产光刻胶产业的发展中，一批优秀企业脱颖而出。彤程新材是国内领先的半导体光刻胶生产商，公司不仅是深紫外KrF光刻胶最大量产供应商，也是国内首家TFT-LCD Array光刻胶生产商和最大液晶正性光刻胶本土供应商。2025年上半年，彤程新材主营业务盈利能力增加，推动业绩稳健增长，实现营收16.55亿元，同比增长4.97%；归母净利润为3.51亿元，同比增长12.07%。
扬帆新材（300637.SZ）围绕硫磷基础化学研究，基于巯基化合物核心平台物，成功构建涵盖907、ITX、BMS、369、379等多型号的光引发剂产品矩阵，深度绑定医药、农药、染色的领域供应链，战略布局含磷阻燃剂板块，并实现阳离子硫鎓盐系列新产品的研发突破。今年上半年，扬帆新材业绩明显改善，实现营收4.73亿元，同比增长47.93%；归母净利润为2314万元，同比扭亏为盈。
强力新材的技术和产品已经覆盖了PCB干膜光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶等主要光刻胶种类中的关键原材料品种。该公司研发的光敏性聚酰亚胺（PSPI）应用于半导体先进封装领域，是重布线制程（RDL）的关键材料，同时开发了多款PSPI产品。
从盘面表现看，截至10月27日午盘，晶瑞电材（300655.SZ）涨15.10%，安泰科技（000969.SZ）、万润股份等个股涨停，艾森股份（688720.SH）涨7.69%，联合化学（301209.SZ）涨7.34%。国产光刻胶产业正迎来前所未有的发展机遇。
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